第187章 極紫外光源的進展（1 / 2）
光學技術研發實驗室
徐華和李默這兩位負責人正在為極紫外光源技術的幾個問題進行討論。
「李博士，雖然我們有復眼鏡頭的加持，但是在靶材、碎屑汙染也是問題啊！」
徐華有些犯愁。
雖然說蜂巢復眼鏡頭技術的出現，從某種程度上解決了極紫外光源的核心鏡片問題，但是仍舊有一些問題存在。
眾所周知，EUV極紫外光刻機最為關鍵的部件就是極紫外光源，這就不用多說了。
而極紫外光源主要有五大關鍵的問題技術需要攻破，才能正式製造出該光源。
其一是多層膜反射鏡，由於EUV光源子能量極高，幾乎可被所有介質所吸收，較高的反射率可以極大提高光源性能。
而經過研究發現，采用Mo/Si多層膜製備出的反射鏡對中心波長為135nm、光譜帶寬在2%以內EUV光的反射率可達70%。
而這一技術在許黎拿出復眼鏡頭技術之後，經過一番實驗後也攻克了。
其二——靶材，為降低離子碎屑、提高EUV-CE，人們開始逐漸減小Sn靶的尺寸，並最終將液滴Sn靶作為主要研究對象。
但是液滴Sn的時空的不穩定性，也給光刻機光源的設計和製造增加了難度。
其三其四分別是驅動光源和雙脈沖模式，這裡不過多講解。
最後就是碎屑汙染的問題，激光等離子體通過激光將入射到靶材產生高溫、高密度的等離子體並輻射EUV光，其過程必然會產生一定的碎屑（由熔融液滴、微粒團簇、中性碎屑原子和高能離子組成）。
這些碎屑不處理好的話，也會損壞光刻機光學元件，進而影響其性能，甚至對人體健康也有一定的影響。
目前市售EUV光刻機產品均采用將充入惰性氣體或氫氣和外加磁場相結合的方案除去碎屑，當然也可以采用雙脈沖方案去除。
不過這兩種方案皆是不適用於現在所設計的光源。
所以還需要重新商討和設計一個去除碎屑的方案。
「怎麼了？看你們愁眉苦臉的樣子。」
一道熟悉的聲音在他們耳邊響起。
兩人轉過頭去，原來是許黎來了。
他才從施工現場回來，想到最近的EUV光源項目研究進展，就順道過來看看。
「校長，我們正在討論兩個光源的關鍵難題呢」
李默解釋道，將剛才他們討論的問題大概說了一遍。
「嗯，這的確是個問題」
許黎扌莫著下巴。
「要不我們可以這樣」
許黎提出了自己的想法。
首先，既然碎屑汙染必定會產生，無論是選擇哪種方案，都會不可避免地產生碎屑，很多去除碎屑的方法基本基本是阻擋緩沖的作用。
那為何不反過來將其吸收轉化，既能大大提高利用率，也能很大程度上減少碎屑汙染的問題。
接著靶材方麵的話換成錫就可以了，雖然可能會產生不少碎屑，但是隻要將吸收轉化器做出來，基本能夠搞定這個問題，而且也不會加重光源的設計難度。
「妙啊！校長，你這個想法或許具有較大的可行性！」
徐華眼睛一亮。
「這也算是一個取巧的辦法，短期內可以用於去重新研究新靶材，這樣也省了很多時間。」
李默也覺得這個想法不錯。
「既然如此，我們趕緊試一下，不過我對極紫外光源的一些關鍵技術還不是很懂，等會也隻能搭把手了。」
許黎笑了笑。
雖然他從科技圖書館那裡獲得了幾項科技，但是對於極紫外光源的深入肯定沒有眼前這兩位深得多。